化学プロセスと自動制御~P制御~(江頭教授)
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化学プロセスで用いられている自動制御についてシリーズで解説しています。前回は電球をヒーターに見立てて簡単なフィードバック制御系を作り、ON/OFF制御によって温度制御を行ってみました。
ON/OFF制御では温度が暴走する(過熱する)ことを防ぐことには有効ですが温度を一定に制御するまでにはいきませんでした。今回はよりよい制御を行う方法について考えてみましょう。
温度が目標値の上下でON/OFFするだけではOFFにしてもすぐに温度が下がるわけではない。ONにしてもすぐに温度が上がり始めるわけではない。この遅れが温度の上下の原因なのですから、温度が目標値に近づいたら加熱を弱めるのはどうでしょうか。
この考えに基づいた制御が比例制御(P制御)という方法です。目標温度と対象の実際の温度の差の大きさに比例して加熱量を制御する、「比例して」というところをとって比例制御と呼ぶわけです。
早速、そのP制御を行ったのが以下の動画です。
まず、「加熱量を制御する」方法について説明しましょう。電力の強弱をコントロールする方法はいくつか考えられるのですが、例えば電圧を変化させる、あるいは交流の場合、電流のサイクルの途中で部分的に電流をOFFにする、という方法があります。
今回は単純に電流を短いタイミングでのON/OFFし、そのタイミングを調整することによって平均した電力を調節する、という手法がとられています。このやり方は単純なスイッチのON/OFFで調整できますが、スイッチのON/OFFの回数は非常に多くなります。以前は膨大な回数のON/OFFに(機械的に)耐えられるものが作れなかったのですが,最近はソリッドステートリレー(半導体を利用したリレーで、機械的なスイッチがありません)の登場でこのやり方が実用化されたそうです。
さて、実際に温度制御をした動画みると、なぜか目標値40℃にはなかなか到達しないことが分かります。(動画は10倍速になっています。)せっかく凝った制御の方法を取り入れたのに、これは一体どうしたことでしょうか?
実は比例制御では温度を目標値に安定させることはできません。温度が目標値と一致する、つまり両者の差がゼロになってしまうと比例制御では加熱が止まってしまいます。これは良く知られたことなのですが、比例制御で安定的に加熱を続けるためには温度差がある程度ないといけない。この「温度差」をオフセットと呼ばれています。
ではこのオフセットをなくすためにはどうすれば良いでしょうか。これについては次回解説しようと思います。
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